Waferhandling Diffusion

 
Zur Erzeugung einer Potentialdifferenz werden in das Kristallgitter des Wafers Phosphoratome eingelagert. Die Dotierung erfolgt in einem Diffusionsofen mit Phosphoratmosphäre. Beim Batch-Prozess wird dazu ein Quarzboot mit Wafern beladen und in den Ofen eingefahren. Das baumann Waferhandling Diffusion automatisiert diesen Be- und Entladeprozess.

Speziell entwickelte Greiftechniken garantieren schonende Handhabung. Ein 6-Achs-Roboter ermöglicht auch komplexe Beladeabläufe bei höchster Präzision. Zur Prozesskontrolle ist ein Leitfähigkeitsmessplatz integriert. Die Verwendung von Standardmodulen gewährleistet
hohe Zuverlässigkeit, Flexibilität und kurze Lieferzeiten.

Info-Download: baumann_Waferhandling_Diffusion.pdf

baumann_PV_Diffusion

Weitere Informationen zum baumann Waferhandling Diffusion erhalten Sie unter: Diese E-Mail-Adresse ist gegen Spambots geschützt! Du musst JavaScript aktivieren, damit Du sie sehen kannst.