Waferhandling Plasma – 3. Generation

Beladen und Entladen von Graphitbooten

Zur Steigerung des Wirkungsgrads wird die Solarzelle mit einer Antireflexionsschicht versehen. Das Aufbringen dieser Schicht erfolgt durch eine spezielle Technik – das PECVD Verfahren (s.u.).

Beim Batch-Prozess wird dazu ein Graphitboot mit Wafern beladen und in einen Ofen transportiert. 

Baumann Waferhandling Plasma ...

... automatisiert diesen Be- und Entladeprozess und setzt eine speziell entwickelte Greifer-Technologie ein, die sicheres Handling bei minimalem Wafer-Bruch gewährleistet.

Ein im System integrierter 6-Achsroboter ermöglicht auch komplexe Belade- und Entladeprozesse bei höchster Präzision.

Ein optional integriertes Visionsystem prüft Materialfehler und kontrolliert die Beschichtungsqualität nach dem Entladeprozess.

Baumann Waferhandling Plasma - Zur Steigerung des Wirkungsgrads von Solarzelle
 
 

Hauptmerkmale:

• Durchsatz Bis zu 2200 W/h
• Bruchrate ≤ 0,1 %
• Technische Verfügbarkeit ≥ 98 %

 

PECVD steht im Englischen für plasma-enhanced chemical vapour deposition, oder auch engl. plasma-assisted chemical vapour deposition, kurz PACVD.

Erfahren Sie hier mehr über den Prozess plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung.


 
 
 
Baumann GmbH

Kontakt

Weitere Informationen zum Baumann Waferhandling Plasma erhalten Sie unter:

photovoltaic@baumann-automation.com